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富乐德301297：泛半导体晶圆光刻机洗净赛道小巨人！稀缺性国内几无竞争对手！已研发半导体14nm 制程洗净工艺！

公司是国内最早从事精密洗净服务的企 业之一，亦系国内最早实现半导体 PVD 洗净工艺量产服务的企业之一。公司在半导体装备领域，公司服务范围广泛，涵盖 PVD（物理气相沉积）、CVD（化学气相沉积）薄膜沉积设备、扩散设备、光刻设备、刻蚀设备等集成 电路制造企业核心设备的精密洗净服务。除了晶圆制造企业，公司还与世界三 大半导体设备厂商（泛林集团、应用材料、东京电子）建立了长期的 战略合作！公司已发展成为 中国大陆地区少数具有国际竞争力的泛半导体设备精密洗净服务提供商！已研发并量产 代 LCD 制程洗净工艺、6 代 OL­ED 制程洗净工艺及 半导体 14nm 制程洗净工艺，具有较为先进的陶瓷熔射工艺，储备的半导体 7nm 部品清洗工艺已较为成熟！给予150亿目标估值！

富乐德（301297）公司专注半导体和显示面板两大领域，为半导体及显示面板生产厂商提供一站式设备精密洗净服务，为客户生产设备污染控制提供一体化的洗净再生解决方案，并逐步成为国内泛半导体领域设备洗净技术及洗净范围（洗净标的物品类）领先的服务企业。公司主营业务是泛半导体领域设备洗净及衍生增值服务，具体包括：半导体设备洗净服务、显示面板设备清洗服务（TFT 设备洗净、OL­ED 设备洗净、陶瓷 熔射再生和阳极氧化再生服务），及半导体设备维修服务等三大类。泛半导体产品制造过程中，需要用到蒸镀、薄膜、蚀刻和光刻等工艺过程。这些工艺使生产设备会沉积覆着物或被刻蚀，为确保生产功效，阶段性对设备进行精密洗净或再生处理，是泛半导体产品制造过程中必不可少的需求。公司服务的行业主要包括泛半导体产业等需要对生产工艺流程进行制程污 染控制的先进制造业。

随着国内外泛半导体 产业的高速发展，特别是国内产能的逐步提升，对生产设备的精密洗净也迎来了 较大的国内市场需求。公司通过自主研发的微污染检测控制技 术、化学复配缓蚀技术、高精度遮蔽加工技术等核心技术，对泛半导体产品生产 过程中需要进行污染控制的设备进行再生式精密洗净，为客户生产设备污染控制 提供洗净整体解决方案。该领域产业技术涉及物理、半导体物理、物理化学、电 化学等多种基础科学和化工、机械、材料、表面处理等多种工程学科，属于多学 科交叉行业。凭借先进的技术和丰富的泛半导体设备精密洗净服务经验，公司已发展成为 中国大陆地区少数具有国际竞争力的泛半导体设备精密洗净服务提供商，服务得到众多国内外主流泛半导体厂商的认可，并取得良好的市场口碑。公司已研发并量产 代 LCD 制程洗净工艺、6 代 OL­ED 制程洗净工艺及 半导体 14nm 制程洗净工艺，具有较为先进的陶瓷熔射工艺，储备的半导体 7nm 部品清洗工艺已较为成熟，公司在 LCD 高世代和 OL­ED 这些 TFT 前沿领域已具 备满足客户全方位洗净需求的能力。

公司是国内最早从事精密洗净服务的企 业之一，亦系国内最早实现半导体 PVD 洗净工艺量产服务的企业之一。公司在半导体装备领域，公司服务范围广泛，涵盖 PVD（物理气相沉积）、CVD（化学气相沉积）薄膜沉积设备、扩散设备、光刻设备、刻蚀设备等集成 电路制造企业核心设备的精密洗净服务。除了晶圆制造企业，公司还与世界三 大半导体设备厂商（泛林集团、应用材料、东京电子）建立了长期的 战略合作。除光刻机设备，公司对其他各类半导体生产设备均形成了成熟的清 洗工艺。公司得到国内主流晶 圆代工和显示面板制造企业的普遍认可，是目前中 国大陆洗净技术先进、服务范围（洗净标的物品类）广泛的半导体和面板设备洗 净服务企业之一。公司2022 年前三季度实现营业收入亿元，同比增长 %；实现净利润为 6311万元，同比增长 %。公司预计 2022 年实现净利润8800 万元至 9000 万元，同比增长 %-%。境内外主要企业：Qu­a­n­t­um Cl­e­an、Ko­M­i­Co、Pe­n­t­a­g­on Te­c­h­n­o­l­o­g­i­es、世禾科技、湖州科秉电子、台湾科智、韩国高美可科技、南京弘洁半导体、安徽应友光电、日本清洗东京电子、华菱科技、湖南高芯众

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